Clàr còmhdaichte le Tantalum Carbide

Ìomhaigh le còmhdach Tantalum Carbide Plate

Tuairisgeul goirid:

Tha còmhdach Tantalum carbide na theicneòlas còmhdach uachdar adhartach a bhios a’ cleachdadh stuth tantalum carbide gus còmhdach dìon cruaidh, caitheamh-caitheamh agus resistant creimeadh a chruthachadh air uachdar an t-substrate.Tha feartan sàr-mhath aig a ’chòmhdach seo a tha ag àrdachadh cruas an stuth gu mòr, an aghaidh teòthachd àrd agus strì ceimigeach, agus aig an aon àm a’ lughdachadh suathadh agus caitheamh.Tha còmhdach carbide tantalum air a chleachdadh gu farsaing ann an grunn raointean, a ’toirt a-steach saothrachadh gnìomhachais, aerospace, innleadaireachd chàraichean agus uidheamachd meidigeach, gus beatha stuthan a leudachadh, èifeachdas cinneasachaidh adhartachadh agus cosgaisean cumail suas a lughdachadh.Co-dhiù a tha iad a’ dìon uachdar meatailt bho chreachadh no a’ neartachadh caitheamh caitheamh agus strì an aghaidh oxidation de phàirtean meacanaigeach, tha còmhdach tantalum carbide a’ toirt seachad fuasgladh earbsach airson grunn thagraidhean.

Cuir post-d thugainn

Mion-fhiosrachadh toraidh

Bathar Tags

Bidh Semicera Semicera a’ toirt seachad còmhdach sònraichte tantalum carbide (TaC) airson diofar phàirtean agus luchd-giùlan.Tha pròiseas còmhdaich adhartach Semicera Semicera a’ comasachadh còmhdach tantalum carbide (TaC) gus fìor-ghlanachd, seasmhachd teòthachd àrd agus fulangas ceimigeach àrd a choileanadh, ag adhartachadh càileachd toraidh criostalan SIC / GAN agus sreathan EPI (Susceptor TaC còmhdaichte le graphite), agus a’ leudachadh beatha nam prìomh phàirtean reactair.Tha cleachdadh còmhdach tantalum carbide TaC gus fuasgladh fhaighinn air an duilgheadas iomall agus càileachd fàs criostail a leasachadh, agus tha Semicera Semicera air adhartas a dhèanamh gus teicneòlas còmhdach tantalum carbide (CVD) fhuasgladh, a’ ruighinn ìre adhartach eadar-nàiseanta.

Às deidh bliadhnaichean de leasachadh, tha Semicera air buaidh a thoirt air teicneòlas aigCVD TaCle co-oidhirpean na roinne R&D.Tha e furasta lochdan nochdadh ann am pròiseas fàis wafers SiC, ach às deidh an cleachdadhTaC, tha an diofar cudromach.Gu h-ìosal tha coimeas eadar wafers le agus às aonais TaC, a bharrachd air pàirtean Simicera airson fàs criostail singilte

Pàirt tac airson fàs criostal singilte

Còmhdach carbide tantalum antiwear_ A’ dìon uidheamachd bho chaitheamh is creimeadh Ìomhaigh sònraichte

Graphite le fàinne còmhdaichte le TaC

le agus as aonais TaC

Às deidh dhut TaC a chleachdadh (deas)

A bharrachd air an sin, tha beatha seirbheis toraidhean còmhdach TaC Semicera nas fhaide agus nas seasmhaiche ri teòthachd àrd na beatha còmhdach SiC.Às deidh ùine mhòr de dhàta tomhais obair-lann, faodaidh an TaC againn obrachadh airson ùine mhòr aig 2300 ceum Celsius aig a’ char as àirde.Seo cuid de na sampallan againn: